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▼a RF Magnetron Sputtering법을 이용한 Al2O3 박막의 성장과 후속 열처리 조건에 따른 특성 분석
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740
▼a Growth of Al2O3 thin film by RF magnetron sputtering method and study of characteristics of the thin film with annealing condition
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▼a FUTURE
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▼a 단행본
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상세정보
RF magnetron sputtering법을 이용한 Al₂O₃박막의 성장과 후속 열처리 조건에 따른 특성 분석. 2000
QR코드| 자료유형 : | 단행본 |
|---|---|
| 분류기호 : | 710 |
| 서명/저자사항 : | RF magnetron sputtering법을 이용한 Al₂O₃박막의 성장과 후속 열처리 조건에 따른 특성 분석. 2000/ 연구책임자: 조길호. |
| 대등표제 : | Growth of Al₂O₃thin film by RF magnetron sputtering method and study of characteristics of the thin film with annealing condition |
| 발행사항 : | [서울]: 육군사관학교 화랑대연구소, 2000.12.31. |
| 형태사항 : | 60p.: 삽도; 26cm. |
| 일반주기 : | 연구기관: 육사 부설 화랑대연구소 |
| 일반주기 : | 연구조원: 김용신, 지상희 |
| 서지주기 : | 참고문헌 : p.58-59 |
| 개인저자 : | 조길호 |
| 개인저자 : | 김용신 |
| 개인저자 : | 지상희 |
| 단체저자명 : | 육군사관학교. 학교본부. 화랑대연구소, 연구기관. |
| 언어 | 한국어 |
예약
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