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• LDR

  01455nam ac200313 k 4500

• 001

  000000448143

• 005

  20220617145541

• 007

  ta

• 008

  020102s1997 ulk AS 000 kor

• 040

  ▼a  211047
  ▼c  211047
  ▼d  111314

• 049

  ▼a  KMAL
  ▼l  AB0000007739
  ▼f  PW

• 090

  ▼a  조길호
  ▼b  5

• 245

  ▼a  Magnetron Sputtering을 이용한 Indium - Tin Oxide 박막의 제작과 그 특성에 관한 연구/
  ▼d  연구책임자: 조길호;
  ▼e  연구원: 정진덕;
  ▼e  김희재.

• 246

  ▼a  (A) Study on the fabrication and characteristics of ITO thin film deposited by magnetron sputtering

• 260

  ▼a  [서울]:
  ▼b  육군사관학교 화랑대연구소,
  ▼c  1997.

• 300

  ▼a  19p.;
  ▼c  26cm.

• 500

  ▼a  단면인쇄임

• 500

  ▼a  연구기관: 육사 부설 화랑대연구소

• 653

  ▼a  MAGNETRON
  ▼a  SPUTTERING을
  ▼a  이용한
  ▼a  INDIUM
  ▼a  TIN
  ▼a  OXIDE
  ▼a  박막
  ▼a  제작과
  ▼a  그
  ▼a  특성에
  ▼a  관한
  ▼a  연구
  ▼a  마그네트론
  ▼a  스퍼터링을
  ▼a  인디움
  ▼a  주석
  ▼a  산화물
  ▼a  틴
  ▼a  옥사이드
  ▼a  STUDY
  ▼a  ON
  ▼a  THE
  ▼a  FABRICATION
  ▼a  AND
  ▼a  CHARACTERISTICS
  ▼a  OF
  ▼a  ITO
  ▼a  THIN
  ▼a  FILM
  ▼a  DEPOSITED
  ▼a  BY
  ▼a  SPUTTERING
  ▼a  A

• 700

  ▼a  조길호

• 700

  ▼a  정진덕

• 700

  ▼a  김희재

• 710

  ▼a  육군사관학교.
  ▼b  학교본부.
  ▼b  화랑대연구소,
  ▼e  연구기관.

• 740

  ▼a  마그네트론 스퍼터링을 이용한 인디움 - 주석 산화물 박막의 제작과 그 특성에 관한 연구

• 740

  ▼a  마그네트론 스퍼터링을 이용한 인디움 - 틴 옥사이드 박막의 제작과 그 특성에 관한 연구

• 740

  ▼a  Study on the fabrication and characteristics of ITO thin film deposited by magnetron sputtering

• 950

  ▼a  가격불명

• 990

  ▼a  FUTURE

• 991

  ▼a  단행본