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• LDR

  01098nam ac200289 k 4500

• 001

  000000449255

• 005

  20220617145953

• 007

  ta

• 008

  020401s2001 ulka 000a kor

• 040

  ▼a  211047
  ▼c  211047
  ▼d  111314

• 049

  ▼a  KMAL
  ▼l  AB0000008027
  ▼f  PW

• 090

  ▼a  김희재
  ▼b  79

• 245

  ▼a  ULSI 확산억제막으로 적합한 Ti-Si-N의 조성 범위에 관한 연구/
  ▼d  박상기 외.

• 246

  ▼a  (A) Study of compositional range of Ti-Si-N films for the ULSI diffusion barrier layer

• 260

  ▼a  [서울?]:
  ▼b  韓國眞空學會,
  ▼c  2001.

• 300

  ▼a  321-327p.:
  ▼b  삽도;
  ▼c  26cm.

• 500

  ▼a  공동저자: 강봉주, 양희정, 이원희, 이은구, 김희재, 이재갑

• 504

  ▼a  참고문헌 수록

• 653

  ▼a  ULSI
  ▼a  확산억제막으로
  ▼a  적합한
  ▼a  TISIN
  ▼a  조성
  ▼a  범위에
  ▼a  관한
  ▼a  연구
  ▼a  STUDY
  ▼a  OF
  ▼a  COMPOSITIONAL
  ▼a  RANGE
  ▼a  FILMS
  ▼a  FOR
  ▼a  THE
  ▼a  DIFFUSION
  ▼a  BARRIER
  ▼a  LAYER
  ▼a  한국진공학회지
  ▼a  A

• 700

  ▼a  김희재

• 700

  ▼a  박상기

• 740

  ▼a  Study of compositional range of Ti-Si-N films for the ULSI diffusion barrier layer

• 740

  ▼a  한국진공학회지

• 772

  ▼t  한국진공학회지,
  ▼g  2001, 제10권 제3호

• 950

  ▼a  가격불명

• 990

  ▼a  FUTURE

• 991

  ▼a  단행본