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상세정보
Aspects of Hard Breakdown Characteristics in a 2.2-nm-thick SiO2 film
QR코드| 자료유형 : | 기사 |
|---|---|
| 기사명 : | Aspects of Hard Breakdown Characteristics in a 2.2-nm-thick SiO2 film |
| 저자 : | Komiya, Kenji|Omura, Yasuhisa |
| 발행사항 : | A Publication of the Institute of Electronics Engineers of Korea : Seoul , 2002 |
| 수록잡지명 : | Journal of Semiconductor Technology and Science[2001-2010] : 2002. September Vol.2 No.3 |
| 페이지 : | 164 |
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