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Theoretical Calculation and Experimental Verification of the Hf/Al Concentration Ratio in Nano-mixed HfxAlyOz Films Prepared by Atomic Layer Deposition
QR코드| 자료유형 : | 기사 |
|---|---|
| 기사명 : | Theoretical Calculation and Experimental Verification of the Hf/Al Concentration Ratio in Nano-mixed HfxAlyOz Films Prepared by Atomic Layer Deposition |
| 저자 : | Deok-Sin Kil|Seung-Jin Yeom |
| 발행사항 : | A Publication of the Institute of Electronics Engineers of Korea : Seoul , 2005 |
| 수록잡지명 : | Journal of Semiconductor Technology and Science[2001-2010] : 2005. June Vol.5 No.2 |
| 페이지 : | 120 |
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