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▼a RF Magnetron Sputtering 법을 이용한 Al2O3 박막의 성장과 후속 열처리 조/
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▼a 50p.
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▼a 학위논문(석사) --
▼b 군사과학대학원,
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▼a 단행본
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상세정보
RF Magnetron Sputtering 법을 이용한 Al2O3 박막의 성장과 후속 열처리 조
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KMO200013410
권 호 : 50
발행년 : 2001
서 명 : RF Magnetron Sputtering 법을 이용한 Al2O3 박막의 성장과 후속 열처리 조
발행처 : 김용신
목차
1. 절연층의 역할과 특성
2. 실험방법
3. 결과 및 고찰
4G LTE/LTE-A 이동통신시스템
568.52 데569ㅍ
(증강현실과 가상현실의) 디스플레이 기초 = Introduction to augmented reality and virtual reality displays
569.81 박583ㄷ
전기전자공학의 기초
560 김728ㅈ
무선 및 이동통신
568 애743ㅁ김 2013
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