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상세정보
Fundamentals of silicon integrated device technology/. 1: Oxidation, diffusion and epitaxy
QR코드| 자료유형 : | 단행본 |
|---|---|
| 분류기호 : | 621.3817 |
| 개인저자 : | Burger, R. M. |
| 서명/저자사항 : | Fundamentals of silicon integrated device technology/ R. M. Burger; R. P. Donovan [jt.]. 1: Oxidation, diffusion and epitaxy. |
| 발행사항 : | Englewood cliffs: Prentice-Hall, 1967. |
| 형태사항 : | xiv, 495p.; 23cm. |
| 총서사항 : | Prentice-Hall electrical engineering series |
| 서지주기 : | Includes index |
| 개인저자 : | Donovan, R. P., jt, |
| 언어 | 영어 |
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