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상세정보

Fundamentals of silicon integrated device technology/. 1: Oxidation, diffusion and epitaxy

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도서 상세정보
자료유형 : 단행본
분류기호 : 621.3817 
개인저자 : Burger, R. M.
서명/저자사항 : Fundamentals of silicon integrated device technology/  R. M. Burger;  R. P. Donovan [jt.].  1:  Oxidation, diffusion and epitaxy. 
발행사항 : Englewood cliffs:  Prentice-Hall,  1967. 
형태사항 : xiv, 495p.;  23cm. 
총서사항 : Prentice-Hall electrical engineering series 
서지주기 : Includes index 
개인저자 : Donovan, R. P., jt,
언어 영어

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