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상세정보
Low Energy boron implantation in silicon: Reduction of channeling tail by Careful Alignments: Transient diffusion during rapid thermal annealing
QR코드| 자료유형 : | 단행본 |
|---|---|
| 분류기호 : | 조길호 |
| 서명/저자사항 : | Low Energy boron implantation in silicon: Reduction of channeling tail by Careful Alignments: Transient diffusion during rapid thermal annealing/ KeelHo Cho(조길호). |
| 발행사항 : | Chapel Hill: The University of North Carolina, 1985. |
| 형태사항 : | vi, 111 p.: ill.; 26 cm. |
| 학위논문주기 : | Dissertaion(Doctor)--The University of North Carolina, 1985. |
| 서지주기 : | Bibliography : p. 78-83. |
| 개인저자 : | 조길호, |
| 개인저자 : | Cho, Keel Ho, |
| 분류기호 : | 조길호 |
| 언어 | 영어 |
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