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• LDR

  01041namsa2200241 k pc7

• 001

  000000524555

• 005

  20180419144403

• 008

  010813s2001 ulka AO 000a kor

• 040

  ▼a  211047
  ▼c  211047
  ▼d  211047

• 049

  ▼a  KMAL
  ▼l  AH0000007070

• 082

  ▼a  671.73

• 090

  ▼a  671.73
  ▼b  김용신

• 245

  ▼a  RF magnetron sputtering법을 이용한 Al2O3 박막의 성장과 후속 열처리 조건에 따른 특성 분석/
  ▼d  김용신.

• 260

  ▼a  서울:
  ▼b  군사과학대학원,
  ▼c  2001.

• 300

  ▼a  vi, 50p.:
  ▼b  삽도;
  ▼c  26cm.

• 500

  ▼a  단면인쇄임

• 500

  ▼j  Growth of Al2O3 thin film by RF magnetron sputtering method and study on characteristics of the thin fulm with annealing condition

• 502

  ▼a  학위논문(석사)
  ▼b  군사과학대학원:
  ▼c  재료과학과,
  ▼d  2001

• 504

  ▼a  참고문헌: p. 48-50

• 653

  ▼a  RF
  ▼a  MAGNETRON
  ▼a  SPUTTERING법을
  ▼a  이용한
  ▼a  AL2O3
  ▼a  박막
  ▼a  성장과
  ▼a  후속
  ▼a  열처리
  ▼a  조건에
  ▼a  따른
  ▼a  특성
  ▼a  분석
  ▼a  GROWTH
  ▼a  OF
  ▼a  THIN
  ▼a  FILM
  ▼a  BY
  ▼a  SPUTTERING
  ▼a  METHOD
  ▼a  AND
  ▼a  STUDY
  ▼a  ON
  ▼a  CHARACTERISTICS
  ▼a  THE
  ▼a  FULM
  ▼a  WITH
  ▼a  ANNEALING
  ▼a  CONDITION

• 700

  ▼a  김용신

• 890

  ▼x  245, 500⇒2, 3첨자

• 950

  ▼a  비매품

• 990

  ▼a  하한보배

• 991

  ▼a  학위논문

• 090

  ▼a  671.73
  ▼b  김용신