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상세정보
RF Magnetron Sputtering법을 이용한 Al_2 O_3 박막의 성장과 후속 열처리 조건에 따른 특성 분석 = Growth of A1Al_2 O_3 thin film by RF magnetron sputtering method and study of characteristics of the thin film with annealing condition
QR코드| 자료유형 : | 단행본 |
|---|---|
| 개인저자 : | 조길호. |
| 서명/저자사항 : | RF Magnetron Sputtering법을 이용한 Al_2 O_3 박막의 성장과 후속 열처리 조건에 따른 특성 분석= Growth of A1Al_2 O_3 thin film by RF magnetron sputtering method and study of characteristics of the thin film with annealing condition/ 조길호 책임연구; 김용신; 지상희; 육군사관학교 화랑대연구소. |
| 발행사항 : | 서울: 육군사관학교 화랑대연구소, 2000. |
| 형태사항 : | 64. p: 삽도; 26cm. |
| 개인저자 : | 김용신 |
| 개인저자 : | 지상희 |
| 단체저자명 : | 육군사관학교 화랑대연구소. |
| 분류기호 : | 621.38 |
| 언어 | 한국어 |
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