MARC 닫기

• LDR

  01034oamoa2200289 u pc4

• 001

  000000289454

• 005

  20120926231952

• 008

  840418s1984 ne a b 001 eng

• 010

  ▼a  84008115

• 015

  ▼a  GB84-18162

• 020

  ▼a  0444423656 (U.S.):
  ▼c  fl 240.00 (est.)

• 040

  ▼a  DLC
  ▼c  DLC
  ▼d  m/c
  ▼d  UKM

• 049

  ▼a  KMAL
  ▼l  AZ0000127100

• 082

  ▼a  670
  ▼2  19

• 090

  ▼a  670
  ▼b  Au2i

• 100

  ▼a  Auciello, Orlando,
  ▼e  ed.

• 245

  ▼a  Ion bombardment modification of surfaces:
  ▼b  fundamentals and applications/
  ▼d  edited by Orlando Auciello, Roger Kelly.

• 260

  ▼a  Amsterdam;.
  ▼a  New York:
  ▼b  Elsevier Science Publishers,
  ▼c  1984.

• 300

  ▼a  xvii, 466 p.:
  ▼b  ill.;
  ▼c  25 cm.

• 440

  ▼a  Beam modification of materials;
  ▼v  1

• 504

  ▼a  Includes bibliographies and index.

• 650

  ▼a  Surfaces (Technology)

• 650

  ▼a  Ion bombardment.

• 650

  ▼a  Ion implantation.

• 650

  ▼a  Sputtering (Physics)

• 653

  ▼a  ION
  ▼a  BOMBARDMENT
  ▼a  MODIFICATION
  ▼a  OF
  ▼a  SURFACES
  ▼a  FUNDAMENTALS
  ▼a  AND
  ▼a  APPLICATIONS
  ▼a  BEAM
  ▼a  MATERIALS

• 700

  ▼a  Kelly, Roger,

• 991

  ▼a  단행본

• 090

  ▼a  670
  ▼b  Au2i