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• LDR

  01410namsa2200277 k pc7

• 001

  000000524553

• 005

  20180419144246

• 008

  990921s1999 ulka AO 000 kor

• 040

  ▼a  211047
  ▼c  211047
  ▼d  211047

• 041

  ▼a  kor
  ▼b  eng

• 049

  ▼a  KMAL
  ▼l  AH0000006090

• 082

  ▼a  546.677
  ▼2  21

• 090

  ▼a  546.677
  ▼b  김여중

• 245

  ▼a  마그네트론 스퍼터링법을 이용한 Indium-Tin Oxide(ITO) 박막의 제작과 그 특성에 관한 연구/
  ▼d  김여중.

• 260

  ▼a  서울:
  ▼b  군사과학대학원,
  ▼c  1999.

• 300

  ▼a  viii, 40장:
  ▼b  삽도;
  ▼c  26cm.

• 500

  ▼a  단면인쇄

• 500

  ▼j  A Study on the fabrication and characteristics of Indium-Tin Oxide(ITO) thin film deposited by the magnetron sputtering method

• 502

  ▼a  학위논문(석사)
  ▼b  군사과학대학원:
  ▼c  재료과학과,
  ▼d  1999

• 504

  ▼a  참고문헌 : p.39-40

• 653

  ▼a  마그네트론
  ▼a  스퍼터링법을
  ▼a  이용한
  ▼a  INDIUMTIN
  ▼a  OXIDEITO
  ▼a  박막
  ▼a  제작과
  ▼a  그
  ▼a  특성에
  ▼a  관한
  ▼a  연구
  ▼a  인디움
  ▼a  틴
  ▼a  옥사이드
  ▼a  OXIDE
  ▼a  ITO
  ▼a  아이티오
  ▼a  A
  ▼a  STUDY
  ▼a  ON
  ▼a  THE
  ▼a  FABRICATION
  ▼a  AND
  ▼a  CHARACTERISTICS
  ▼a  OF
  ▼a  THIN
  ▼a  FILM
  ▼a  DEPOSITED
  ▼a  BY
  ▼a  MAGNETRON
  ▼a  SPUTTERING
  ▼a  METHOD

• 700

  ▼a  김여중

• 740

  ▼a  마그네트론 스퍼터링법을 이용한 인디움 - 틴 옥사이드 박막의 제작과 그 특성에 관한 연구

• 740

  ▼a  마그네트론 스퍼터링법을 이용한 Indium-Tin Oxide 박막의 제작과 그 특성에 관한 연구

• 740

  ▼a  마그네트론 스퍼터링법을 이용한 ITO 박막의 제작과 그 특성에 관한 연구

• 740

  ▼a  마그네트론 스퍼터링법을 이용한 아이티오 박막의 제작과 그 특성에 관한 연구

• 950

  ▼a  가격불명

• 990

  ▼a  하한보배

• 991

  ▼a  학위논문

• 090

  ▼a  546.677
  ▼b  김여중