MARC 닫기

• LDR

  00792oamoa2200241 u pc4

• 001

  000000340551

• 005

  20120926231151

• 008

  820426s1982 us a 001 eng

• 010

  ▼a  82007894

• 020

  ▼a  0815509138:
  ▼c  $42.00

• 040

  ▼a  DLC
  ▼c  DLC
  ▼d  m/c

• 049

  ▼a  KMAL
  ▼l  AZ0000113417

• 082

  ▼a  660.28
  ▼2  19

• 090

  ▼a  660.28
  ▼b  C69e

• 100

  ▼a  Collie, M. J.

• 245

  ▼a  Etching compositions and processes/
  ▼d  edited by M.J. Collie.

• 260

  ▼a  Park Ridge, N.J.:
  ▼b  Noyes Data Corp.,
  ▼c  1982.

• 300

  ▼a  xii, 308 p.:
  ▼b  ill.;
  ▼c  23 cm.

• 440

  ▼a  Chemical technology review,
  ▼s  0198-6880;
  ▼v  no. 210

• 500

  ▼a  Includes indexes.

• 650

  ▼a  Metals
  ▼x  Etching
  ▼x  Patents.

• 650

  ▼a  Etching reagents
  ▼x  Patents.

• 653

  ▼a  ETCHING
  ▼a  COMPOSITIONS
  ▼a  AND
  ▼a  PROCESSES
  ▼a  CHEMICAL
  ▼a  TECHNOLOGY
  ▼a  REVIEW

• 991

  ▼a  단행본

• 090

  ▼a  660.28
  ▼b  C69e